Samsung introducerer høj NA EUV for at øge konkurrenceevnen på 2nm -markedet

Samsung Electronics har angiveligt introduceret den næste generations halvlederlitografiudstyr, High Numerical Aperture (NA) Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography Machine (High NA EUV)-EXE: 5000-på sin Hwaseong-facilitet i Sydkorea i begyndelsen af ​​marts.Høj NA EUV er vigtig for fremstilling af ultra-fine kredsløb under 2nm, hvilket signaliserer Samsungs bestræbelser på at forbedre sin sub-2NM-processteknologi.

Rapporten fremhæver, at dette avancerede udstyr leveres med en heftig prismærke på 500 milliarder KRW (ca. 2,501 milliarder RMB) og leveres udelukkende af ASML, hvilket gør det til et af de mest efterspurgte værktøjer i halvlederindustrien.

Siden sidste år har Samsung evalueret anvendelsen af ​​høj NA EUV i sin fremstillingsproces og planlægger angiveligt at bruge den til sin næste generations halvlederknudepunkter under 2nm.

Høj NA EUV betragtes som en kritisk aktivering for avancerede under-2NM-støberi-processer.Ledende halvlederfirmaer over hele verden kæmper for at anvende denne avancerede teknologi.Intel har allerede underskrevet en kontrakt om at købe seks af disse maskiner med den første, der blev leveret i 2023. I mellemtiden har TSMC for nylig introduceret udstyret i sin produktionslinje for at fremskynde vedtagelsen af ​​sin 2NM -processteknologi.

Ifølge Trendforce nåede TSMCs globale støberi -markedsandel i 4. kvartal 2023 67,1%, en stigning på 2,4 procentpoint fra 3. kvartal 2023. I modsætning hertil har Samsung kæmpet på markedet, med sin andel faldet 1 procentpoint fra 9,1% til 8,1% i den samme periode.